智東西（公眾號(hào)：zhidxcom）
編譯 | 趙迪
編輯 | 云鵬
智東西2月9日消息，據(jù)Counterpoint報(bào)道，往年全球半導(dǎo)體行業(yè)總銷售額創(chuàng)下5500億美元的新紀(jì)錄，隨著芯片市場(chǎng)需求的增加，荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML公司作為芯片制造關(guān)鍵設(shè)備制造商，儼然成為***幕后贏家。
EUV技術(shù)是目前先進(jìn)光刻機(jī)用到的主要技術(shù)之一，ASML公司目前在這一技術(shù)領(lǐng)域處于壟斷地位，往年預(yù)計(jì)交付約60套EUV光刻機(jī)，實(shí)現(xiàn)快速出貨，填補(bǔ)疫情下的芯片缺口。
近日，ASML公司公布了2021財(cái)年第四季度業(yè)績(jī)，其中凈銷售額同比增長(zhǎng)35%，毛利率創(chuàng)下歷史新高，達(dá)到52.7%，其中EUV（極紫外線）光刻機(jī)銷售額達(dá)到63億歐元（約合人民幣458億元）。
為應(yīng)對(duì)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的縮小，該公司還在大力投資High-NA（高數(shù)值孔徑）光刻機(jī)，預(yù)計(jì)2023年出貨5套型號(hào)為EXE:5000的High-NA光刻機(jī)。
一、半導(dǎo)體行業(yè)收入激增，ASML優(yōu)化EUV技術(shù)欲保龍頭地位
往年，全球半導(dǎo)體行業(yè)總銷售額達(dá)到創(chuàng)紀(jì)錄的5500億美元，Counterpoint表示，由于5G、物聯(lián)網(wǎng)、云計(jì)算、高性能計(jì)算、汽車芯片和其他領(lǐng)域需求的增加，預(yù)計(jì)到 2030 年，半導(dǎo)體行業(yè)總收入將達(dá)到 1 萬(wàn)億美元。
光刻技術(shù)是目前芯片生產(chǎn)的核心工藝，其中，EUV技術(shù)被認(rèn)為是當(dāng)前生產(chǎn)芯片的***工藝，，ASML公司作為光刻系統(tǒng)行業(yè)的***，能憑借對(duì)先進(jìn) EUV 技術(shù)的大量投資和在EUV技術(shù)方面的壟斷地位，以及在老式光刻系統(tǒng)產(chǎn)品線中的主導(dǎo)地位，在未來(lái)繼續(xù)獲得較高市場(chǎng)估值。
▲ASML公司展示的EUV光刻技術(shù)
ASML公司表示該公司已經(jīng)對(duì)High-NA光刻機(jī)進(jìn)行了大量投資，High-NA光刻機(jī)是EUV光刻機(jī)的進(jìn)一步優(yōu)化，該公司的目標(biāo)是使其能夠?qū)崿F(xiàn)3nm芯片的生產(chǎn)。目前，該公司已經(jīng)收到五個(gè)EXE:5000型號(hào)（High-NA產(chǎn)品型號(hào)）的訂單，各光學(xué)掩模、光刻膠供應(yīng)商之間正在密切協(xié)作，預(yù)計(jì)在2023年完成出貨。2024年，AMSL還將推出EXE：5200型號(hào)，這是該公司下一代預(yù)計(jì)大批量生產(chǎn)的High-NA光刻機(jī)。
此外，ASML公司稱，往年至2026年，該公司凈銷售額同比增長(zhǎng)將達(dá)到20%左右，這部分的增長(zhǎng)將主要通過(guò)High-NA光刻機(jī)的EUV設(shè)備銷售來(lái)實(shí)現(xiàn)，到2025年，High-NA光刻機(jī)將被大規(guī)模用于DRAM芯片（Dynamic Random Access Memory）的生產(chǎn)。
二、2021財(cái)年Q4業(yè)績(jī)公布，EUV光刻機(jī)銷售額達(dá)63億歐元
ASML公司財(cái)報(bào)顯示，該公司2021財(cái)年第四季度凈銷售額同比增長(zhǎng)35%，達(dá)到186億歐元，凈利潤(rùn)同比增長(zhǎng)64%，達(dá)到59億歐元，系統(tǒng)凈預(yù)定訂單額達(dá)到262億歐元，毛利率提高至52.7%，這是該公司成立以來(lái)***的毛利率。此外，ASML公司每股收益同比增長(zhǎng)69%，達(dá)到14.36歐元。
▲ASML公司各業(yè)務(wù)的年度銷售額貢獻(xiàn)率（來(lái)源：Counterpoint）
目前，ASML公司主要出產(chǎn)的光刻機(jī)有EUV 42、DUV-ArFi 81、ArFdry 22、KrF 131、i-line 33，其中，EUV光刻機(jī)的銷售額2021財(cái)年第四季度銷售額就達(dá)到63億歐元，整個(gè)2021財(cái)年里，EUV光刻機(jī)的銷售額對(duì)總銷售額的貢獻(xiàn)率達(dá)到46%。
目前，臺(tái)積電應(yīng)用的就是基于 0.33 數(shù)值孔徑的 EUV 光刻機(jī)，可以生產(chǎn) 5nm芯片。隨著技術(shù)節(jié)點(diǎn)的縮小，EUV技術(shù)被廣泛應(yīng)用于硅晶圓制作。ASML表示，最近將有6套左右的EUV光刻機(jī)完成出貨，往年共計(jì)將交付60套EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)到2025年，EUV光刻機(jī)出貨量將增加1.5倍以上。
結(jié)語(yǔ)：疫情加劇供需失衡，ASML仍要面對(duì)技術(shù)挑戰(zhàn)
Counterpoint表示，ASML公司向大眾展示了2021財(cái)年第四季度強(qiáng)勁的業(yè)績(jī)，面對(duì)新冠疫情造成的芯片供應(yīng)短缺和供需不平衡問(wèn)題，全球科技產(chǎn)業(yè)都聚焦芯片問(wèn)題，臺(tái)積電、英特爾等科技巨頭成為焦點(diǎn)，但光刻機(jī)這一芯片制造關(guān)鍵設(shè)備的核心技術(shù)一直被ASML公司牢牢把握，成為幕后***贏家。
ASML公司表示將繼續(xù)專注供應(yīng)鏈能力的建設(shè)，大幅提高DUV、EUV等設(shè)備的產(chǎn)量，其中，ASML公司能生產(chǎn)3nm芯片的High-NA光刻機(jī)將引領(lǐng)下一個(gè)技術(shù)潮流，目前，High-NA光刻機(jī)在孔徑敏感度、狹窄的進(jìn)程窗口等方面還面臨挑戰(zhàn)，ASML能否實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)High-NA光刻機(jī)的目標(biāo)，還是未知數(shù)。
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文章標(biāo)題：原創(chuàng) 半導(dǎo)體市場(chǎng)沖向萬(wàn)億美元營(yíng)收，ASML今再發(fā)60臺(tái)EUV光刻機(jī)！
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